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加熱制冷控溫系統(tǒng)　反應釜動態(tài)溫度控制系統(tǒng)　加熱冷卻循環(huán)裝置　加熱冷卻循環(huán)器　加熱制冷循環(huán)器加熱制冷循環(huán)裝置 制冷加熱控溫系統(tǒng)介紹

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)裝置-40℃～200℃（拖二系統(tǒng)）

SUNDI系列制冷加熱—適合高放熱量應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環(huán)裝置體機-45℃ ～ 250℃

寬工作溫度范圍，同時具備加熱制冷功能，Z大溫度范圍：-50 ～250度。寬工作溫度范圍，同時具備加熱制冷功能，Z大溫度范圍：-50 ～250度。全封閉小型高低溫循環(huán)裝置

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。反應釜控溫系統(tǒng)-40℃ ～ 200℃（拖二系統(tǒng)）